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    英伟达下一代显。卡曝光 采用三星7nm工艺


    admin| 更新时间:2019-06-19 17:09|点击数:未知

    今年下半年,包括苹果、华为、AMD都将推出基于7nm的产品,其中AMD更是在CPU和GPU上同。时采用7nm工艺。行为显。卡市场竞争对手,英伟达也要准备步入7nm。据产业链内部新闻,英伟达图灵中间的下一代命名为安培中间,其将会采用7nm EUV工艺。

    一挑到7nm,许众朋友都会以为英伟达与台积电配相符,原形上此次英伟达与三星进走配相符,其芯片将会基于三星的7nm EUV工艺。尽管现在市面上还异国一款芯片采用三星7nm EUV工艺,但考虑到基于安培中间的英伟达显。卡将会于2020年上市,以是时间方面不是题目。

    英伟达下一代显。卡将采用三星7nm工艺

    三星的7nm EUV工艺之以是较台积电晚,是由于三星跳过了7nm DUV,直接采用了7nm EUV工艺。现在台积电第一代7nm工艺为DUV,7nm EUV工艺也已投产,但相答芯片还异国上市。以是明年在7nm EUV工艺上,三星和台积电将会面临直接竞争。

    编辑点评:对于三星而言,选择跳过7nm DUV工艺隐晦是有风险的,在客户资源、宣传方面都不幸。从时间节点上望,三星7nm EUV工艺最早将会用户自家的Exynos 9825,展望今年第三季度上市。以是对于英伟达而言,三星7nm EUV工艺能否抗衡台积电,就望Exynos 9825的外现了。

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